Rascacielos de firma

Detalles Bibliográficos
Publicado en: AV 2002(93/94).
Autor Principal: Fernandez-Galiano, Luis
Formato: Artículo
Lengua:español
Datos de publicación: Enero-Abril 2002
Temas:
Acceso en línea:Consultar en el Cátalogo
Resumen:Ensayo sobre la evolución tipológica del rascacielos de autor hasta la actualidad en las ciudades de Nueva York, Londres, Chicago, Shangai, Hong Kong
Descripción Física:8-13 : Fotos, maquetas, volumetrías digitales